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考研論壇

標題: 一氧化硅-性能介紹 [打印本頁]

作者: jsats0523 時間: 2020-11-17 09:24
標題: 一氧化硅-性能介紹
一氧化硅-性能介紹

一氧化硅分子量44.09，密度2.1，熔點1702℃，在10-2Pa真空下的蒸發溫度為850℃。可用鎢、鉬、鉭舟加熱蒸發，用電子束加熱蒸發效果很好。
一氧化硅薄膜的透明區為0.5~8μm，8μm以上吸收增加。一氧化硅薄膜的折射率與蒸鍍參數密切相關，在高真空中快速蒸發其折射率較高，低真空中慢速蒸發其折射率較小。
一氧化硅薄膜是中短波紅外區最常用的光學薄膜之一，在光學薄膜中具有廣泛的應用，它不但可以用于鋁前面反射鏡的保護膜，多層減反射膜，還可以用于紅外光學元件的減反射膜。
另外一氧化硅薄膜對氧氣、水汽、氣味等具有良好的阻氣性，淀積在塑料膜上形成阻氣膜，用于食品、藥品、精密電子部件等的包裝上。

愛特斯光學一氧化硅塊料月產量能達到5-6噸，并且在逐步上升中；生產技術處于行業領先。穩定的品質，齊全的規格，充足的供貨量，給客戶提供多樣化的選擇，及時的供貨。

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