一氧化硅-性能介紹

jsats0523 · 發(fā)表于 2019-1-14 10:21

一氧化硅-性能介紹

一氧化硅分子量44.09，密度2.1，熔點(diǎn)1702℃，在10-2Pa真空下的蒸發(fā)溫度為850℃。可用鎢、鉬、鉭舟加熱蒸發(fā)，用電子束加熱蒸發(fā)效果很好。
一氧化硅薄膜的透明區(qū)為0.5~8μm，8μm以上吸收增加。一氧化硅薄膜的折射率與蒸鍍參數(shù)密切相關(guān)，在高真空中快速蒸發(fā)其折射率較高，低真空中慢速蒸發(fā)其折射率較小。
一氧化硅薄膜是中短波紅外區(qū)最常用的光學(xué)薄膜之一，在光學(xué)薄膜中具有廣泛的應(yīng)用，它不但可以用于鋁前面反射鏡的保護(hù)膜，多層減反射膜，還可以用于紅外光學(xué)元件的減反射膜。
另外一氧化硅薄膜對(duì)氧氣、水汽、氣味等具有良好的阻氣性，淀積在塑料膜上形成阻氣膜，用于食品、藥品、精密電子部件等的包裝上。

愛(ài)特斯光學(xué)一氧化硅塊料月產(chǎn)量能達(dá)到5-6噸，并且在逐步上升中；生產(chǎn)技術(shù)處于行業(yè)領(lǐng)先。穩(wěn)定的品質(zhì)，齊全的規(guī)格，充足的供貨量，給客戶(hù)提供多樣化的選擇，及時(shí)的供貨。

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